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當前位置:首頁 產(chǎn)品中心 半導體&LCD專用設備
◆可適用于6寸、8寸或1 2寸晶圓蝕刻后去膠制程的清洗作業(yè)。
◆工作節(jié)拍: 20-30min。
◆配置11套清洗、干燥腔體。 .
◆可靠的專用工作液體快排裝置,保證高效的工藝切換。
◆內置組合式工裝自動輸送裝置,保證復合工藝要求及較高的
生產(chǎn)效率。
◆4套清洗藥液獨立控制裝置。
◆化學液回收儲存裝置。
◆藥液流量[敏感詞]控制系統(tǒng)。
◆N2溫風干燥系統(tǒng)。
◆高效空氣凈化及進排氣裝置。
◆[敏感詞]的清洗效果。
◆自動滅火裝置。